회전 노즐 플라즈마 표면 처리기 청소 기계 플라즈마 청소 기계 장치
| 커스터마이징: | 사용 가능 |
|---|---|
| 판매 후 서비스: | 온라인 |
| 보증: | 1년 |
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기본 정보
제품 설명
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회전 노즐 플라즈마 표면 처리 장치 청소 기계 플라즈마 청소 기계 기구개요:
진공 플라즈마 클리너(플라즈마 클리너)에서, 가스와 함께 여기 전원 공급 장치를 통해 플라즈마 상태로 분리됩니다. 또한 플라즈마는 제품 표면에 있는 오염물질을 세척하기 위해 제품 표면에 작용하므로 표면 활동을 개선하고 접착력을 향상시킵니다. 플라즈마 청소는 새롭고 환경 보호, 효율적이고 안정적인 표면 처리입니다.
회전 노즐 플라즈마 표면 처리 장치 청소 기계 플라즈마 청소 기계 기구
제품 특징:
1.제품 배치 고정장치는 유연하며 불규칙한 제품에 적응할 수 있습니다
2.수평 전극 디자인은 부드러운 제품 가공의 요건을 충족할 수 있습니다.
에너지 및 가스 소비가 낮은 제품
4.보드를 올려 내려놓는 편리한 방법
진공 시스템 통합, 작은 설치 공간
6.적절한 혈장 반응 공간, 따라서 치료가 더 균일합니다
7.통합 제어 계통 설계로 보다 편리하게 작업할 수 있습니다
회전 노즐 플라즈마 표면 처리 장치 청소 기계 플라즈마 청소 기계 기구
산업 애플리케이션:
1.휴대전화 업계: TP, 중간 프레임, 후면 덮개 표면 청소 활성화
2.PCB/FPC 산업: 홀 드릴링 및 표면 청소, 겹쳐진 표면 거칠기 및 청소
반도체 산업: 반도체 포장, 카메라 모듈, LED 포장, BGA 포장, 4.와이어 본드 전처리
세라믹: 접착제 포장, 전처리
표면 거칠기 에칭: PI 표면 거칠기, PPS 에칭, 반도체 실리콘 칩 PN 접합부 제거, ITO 필름 에칭
플라스틱 재료: 테플론 표면 활성화, ABS 표면 활성화 및 기타 플라스틱 재료 세척 활성화
ITO를 도포하기 전에 표면을 청소하십시오
회전 노즐 플라즈마 표면 처리 장치 청소 기계 플라즈마 청소 기계 기구
장비 사양:
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전원 시스템 |
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중간 주파수 전원 공급 장치 |
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파워 |
0 ~ 600W |
0 ~ 2000W |
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주파수 |
13.56MHz |
40kHz |
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진공 공장 |
2단 베인 펌프(오일 펌프)
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60m3/h |
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모든 스테인리스 스틸 배관 및 고강도 진공 벨로우즈 |
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텍스처 |
알루미늄 합금(맞춤형 스테인리스 강) |
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두께 |
25mm |
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누출 방지 |
군용 등급 용접 씰 |
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캐비티 내부 치수 |
4450 × 450 × 500mm (너비 × 높이 × 깊이) |
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유효 크기의 전극 플레이트 |
420 × 411mm(너비 × 깊이) |
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사용 가능한 공간 간격 |
22.5mm |
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전극 레이아웃
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수평 배열, 방사능 추출
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작업 트레이 |
표준 1세트, 재질 옵션(알루미늄, 강철 와이어 메쉬) |
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8층 |
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가스 시스템 |
유량 범위 |
0 ~ 300SCCM |
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공정 가스 경로 |
2개의 표준, 사용자 정의 가능 |
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제어 시스템 |
시스템 제어 |
PLC |
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전달 방법 |
7인치 터치 스크린 |
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기타 매개변수 |
경계 치수 |
900 × 1750 × 1000mm(w × h × d) |
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무게 |
200kg |
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장비 모양 색상 |
실버 그레이 |
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회전 노즐 플라즈마 표면 처리 장치 청소 기계 플라즈마 청소 기계 기구
공장 사양:
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공장 사양 |
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AC 전원 규격
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기본 배기
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유량: 2.0m³/분 |
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공장 작업에 필요한 가스
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유량: 1~10L/min 압력: 3~7kg/cm² 파이프 직경: 6 × 4mm 텍스처: PU 파이프 순도: 99.99% 이상 |
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공장 압축 공기 요구 사항
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유량: 1~10L/min 압력: 3~7kg/cm² 파이프 직경: 8 × 5mm 질감: 파피페 이슬점: -40ºC 미만 파티클 >0.3μm:10Pcs/ft³ |
회전 노즐 플라즈마 표면 처리 장치 청소 기계 플라즈마 청소 기계 기구
2.3 일반 요구 사항
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일반 요구 사항 |
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위험 식별 |
고압 위험 식별
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서비스 환경 |
온도: 15 ~ 30ºC 습도: 30 ~ 70% |
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기타 주의가 필요한 사항 |
가연성 가스, 부식성 가스, 폭발 또는 반응성 먼지 없음 가스 실린더는 고정해야 합니다 |
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설정 목록 |
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일련 번호 |
이름 |
설명 |
단위 |
수량 |
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1 |
메인 엔진 |
경계 치수: 900 × 1750 × 1000mm (너비 × 높이 × 깊이) |
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1 |
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2 |
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알루미늄 합금 진공 챔버
(너비 × 높이 × 깊이) |
|
1 |
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3 |
여기 전원 공급 장치 |
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식용 주파수 전원 공급 장치 |
커버 |
1 |
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전원 0 ~ 600 w 또는 0 ~ 1000W는 선택 사항입니다. 완전 자동 진공 콘덴서 매칭 유닛 |
0 ~ 1000W,
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4 |
PLC |
Siemens, S7-200 |
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1 |
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5 |
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Wei LUN 고데기, 7인치 화면, MT6071iE |
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1 |
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6 |
유량계 |
영국 윙크 브랜드 |
개별 |
2 |
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7 |
진공 펌프 |
플라이오버 2단 베인 펌프(오일 펌프): 60m3/h |
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1 |
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8 |
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푸 강 |
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1 |
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9 |
사양 |
진공 플라즈마 청소 기계 SPV-100 사용 설명서 |
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1 |
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회전 노즐 플라즈마 표면 처리 장치 청소 기계 플라즈마 청소 기계 기구
옵션 표:
|
선택 사항 표 |
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여기 전원 공급 장치 |
무선 주파수 전원 공급 장치 |
중간 주파수 전원 공급 장치 |
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맞춤형 전원 공급 장치 제작:
전원 0 ~ 600W 또는 0 ~ 1000W 선택 가능,
완전 자동 진공 콘덴서 매칭 유닛
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주파수 40KHz, 전력 1000W
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미국 CERESPower 공급: 주파수 13.56MHz; 전원 0 ~ 600W 또는 0 ~ 1000Wchoosable ; American Ceres 자동 진공 커패시터 매쳐 |
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진공 펌프 |
독일 라이바오 2단계 베인 펌프(오일 펌프): 60m3/h |
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플라이오버 2단 베인 펌프(오일 펌프): 60m3/h |
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